第六百五十七章 時間才是最大的敵人

  「大陸晴風集團創始人?」

  「旗下已有三家上市公司,資產數百億?內地隱形富豪?」

  「白手起家,竟然才26歲?」

  看到葉風的資料,張中謀懷疑是不是底下的搞錯了?

  很快,他就打消了這個念頭。

  能擺上他案頭的,自然是確定無數次的材料。

  和葉風的資料一起擺上案頭的,還有近期中芯的變化。

  「剛剛經歷了非典的衝擊,中芯就開始量產90nm的工藝的晶片了嗎?」

  「中芯竟然從荷蘭阿斯麥公司進口了一台最先進的光刻機。還是今年才從香江維多利亞港裝船的。」

  「中芯那邊有高人啊,居然沒有找「光刻機霸主」——東洋的尼康和佳能購買設備,反而找到這家小廠?」

  張中謀不得不佩服中芯高人的眼光獨到之處。

  荷蘭的光刻機技術不比東洋差,但是名氣要小得多。他們正好需要打破東洋的壟斷,只要中芯許之與厚利就能突破《瓦森納協定》的封鎖,從而買到最先進的光刻機。

  去年積電代工英特爾最成熟的晶片工藝,就是90nm的。

  中芯這是追到積電的屁股後面了。

  雙方的技術代差,只有半代了。

  想到這裡。

  張中謀不慌不忙,吩咐助理:「把林苯堅叫來。」

  ……

  不一會,一名50來歲的清瘦男子奉命前來。

  此人正是積電技術副總監林苯堅,1970年獲得美國俄亥俄州立大學電機工程博士,在IBM一干就是22年,專攻高成像技術。

  2000年,林苯堅加入了積電,提出一系列突破性的創新,研發濕法光刻技術。

  這項技術和如今的干法光刻技術方案背道而馳,林苯堅還被圈內人吐槽是「擋在航空母艦面前不自量力的飛鳥」。

  此方案也遭到了如今「光刻機霸主」東洋佳能和尼康的抵制。林苯堅剛剛提出即遭反對,心情自然是鬱悶無比,只得暗自研究相關工藝。

  「張總,您找我?」林苯堅進門,就看到張中謀在看資料沉思。

  「苯堅吶,你來了。」張中謀聞言抬頭,喜道:「快請坐。」

  待到林苯堅小心地坐下後,張中謀笑道:「苯堅啊,你上次申請的濕法光刻技術項目,我研究後很有興趣,你能對我再講講你的看法嗎?」

  「啊……」

  林苯堅聞言又驚又喜,驚的是德高望重的張中謀親自研究了他的項目方案,喜的是自己終於得到了發揮的機會。

  他整理了一下思路,緩緩道:「傳統的乾式光刻法,自1959年發明『平面積成電路』以來,被持續使用了四十年,然而受限於基本光學衍射,在90年代後期,用該方法製造特徵尺寸小於65納米的晶片面臨無法逾越的瓶頸。」

  林苯堅堅定地道:「我預見昂貴的乾式光刻技術將進入死角,所以建議使用濕式光刻,該方法是一種新的光刻工序,透過液體介質置換透鏡和晶圓表面之間的氣隙以提高光學解析精度。」

  「這個我知道,你說的濕式光刻,是浸潤式光刻,這個概念在80年代曾有人提出過。但這個概念很原始,距離可實現的方法還很遠。」張中謀點頭道。

  「對,為了優化浸潤式光刻系統,我在理論上重新定義並導出了關鍵性能指標和縮放公式,為極高解析度的三維浸潤式光刻光學系統,規範了必須遵行的縮放定律。」

  林苯堅道:「我還在實驗室的研究發現,想要完善浸潤式光刻,就是要克服液體中微氣泡的形成。還必須要開拓在熱力學極限下,經由水而衍射的光刻工序。」

  張中謀赫然動容道:「如果你的這個設想全部解決,那麼在科學和工程上,就證實了濕式光刻方法可用於最先進的IC製程,可以將IC技術節點從65nm持續降低,打破65nm的技術壁障。」

  「對,這樣摩爾定律又可以生效了。至少可以再持續延伸了五代以上。」林苯堅信心滿滿地道。

  「哈哈,好哇!」

  張中謀大笑,「就是要你的這種底氣,你來看看這份資料。」

  他指著中芯突破90nm技術的資料給林苯堅看,「如果技術停滯,後來者就很容易追上來。為了保持我們的技術領先,我決定馬上研發濕法光刻技術。由你牽頭負責成立技術團隊,爭取一年內出成果。咱們積電不發威,什麼內地小公司都敢追上來了。」

  林苯堅臨危受命卻大喜,他立正道:「保證完成任務。」

  「不過……」林苯堅又道:「光刻機霸主——東洋佳能和尼康十分抵制我的這個方案,我們找哪家公司一起研發濕法光刻機呢?」

  「那裡……」

  張中謀又指了指手中的資料,林苯堅低頭看去,「荷蘭小廠阿斯麥?」

  「對,相信他們願意嘗試。這是他們打敗東洋霸主的機會。」

  張中謀雖然不熟悉這家小廠,但他懂人心。

  他拍拍林苯堅的肩膀,「儘快出發,和這家公司交好,必要的時候可以提供技術支持或資金入股,爭取這家公司更多的話語權。」

  張中謀安排好了林苯堅,目光又落到了案頭的資料上面。只見資料最上方,葉風的清秀帥氣的照片,帶著淡淡的笑容。那面容年輕得過份。

  嘆了一口氣道:「唉,我和張如京都老了,就算我現在能帶領積電領先一步,十年二十年後,我還能帶得動積電這艘大船嗎?時間,才是我最大的敵人啊。」

  他此時還不知道,林苯堅的濕法光刻技術大獲成功,不僅革新了集成電路的製程,還使先進半導體晶片的特徵尺寸,能持續縮減為5-7納米量級,為建造最強大的計算和通信系統做出了關鍵貢獻,讓積電的製程技術一直領先了15年。

  而且,不但積電完成了技術突破,荷蘭阿斯麥也迅速崛起,擊垮東洋霸主成為行業巨頭,和積電結下了深厚的戰友情。

  如果不是葉風的出現,15年後的阿斯麥將在美國的重壓下,卡著中芯的脖子,不再給中芯提供7納米級的先進光刻機,差點將中芯逼入絕境。