第5章 承上啟下的發現

  第5章 承上啟下的發現

  周新對於自己會在第二天上午就受到胡正明的回信有點意外。

  要知道二十年之後,胡正明查看郵件的頻率是每周一次。

  「難道說年輕時候的老師,每天都會看一次郵件?」

  「看不出來當年的老師這麼刻苦。」

  雖然周新之前跟的是胡正明,但是胡正明在那個年齡大多時候都只是給一些方向性的建議。

  當然即便如此,胡正明在2016年也就是六十九歲的時候,還在science上發表了引用次數超過一千次的論文。

  「胡教授,你好,我是燕大微電子專業的大二學生周新,周雖舊邦其命維新的周新。」

  跨國電話很貴,周新來了之後也沒有再去開源。

  僅僅靠獎學金,還是頗有些捉襟見肘。

  「周新,好名字。

  我本來還以為是晶片的芯。

  我看了你發給我的郵件,我還以為是哪個教授在MOSFET模型上有了新的思路。

  你的成果足以發表在IEEE甚至是Science上了。」

  二人是用英文對話,即便是周雖舊邦其命維新,周新也是用英語說的。

  畢竟他之前去伯克利讀博士的時候,專門把這句話翻譯成了英文,在給外國人做自我介紹的時候說。

  周是幾千年前華國的王朝,再補充上這麼一句,瞬間讓沒有什麼歷史的阿美利肯人另眼相看。

  這也算是周新在國外快速和外國人熟悉起來的一點小技巧。

  聊歷史政治這些,是能夠快速和另外一個陌生男性拉近距離的方式之一。

  「是的,我目前是燕京大學微電子專業的大二學生,之所以發這封郵件,是希望來就讀伱的博士。

  因為我經濟狀況不太好的緣故,還需要你提供全獎或者半獎。」

  這個年代全獎和半獎的區別,在於半獎能夠拿到的錢更少,同時半獎需要工作,比如代課、批改作業之類的工作。

  全獎會被導師要求工作,只是可以選擇拒絕。

  一般來說是不會拒絕的。

  「跨國電話對於我來說有點貴,所以我將我希望直截了當的表達我的訴求。」

  周新說完後,胡正明停頓片刻後問道:

  「我稍後會發一份卷子給你,你有五個小時的時間進行作答。

  你在回答之後通過電子郵件的方式回復我。

  如果有八十分,我會幫你安排好一切的。

  這份卷子不會太難,只是伯克利分校電子工程系博士生入學考試的標準。

  雖然對普通大二學生來說,會有點難。

  但是你在郵件中表現出來對模型敏銳的直覺以及處理方式,都不是一個普通大二學生。

  甚至我帶過的很多博士生在畢業的時候,在這方面的能力都不如你。」

  胡正明沒有給周新設置太高的門檻,博士生入學考試的難度。

  當然這個難度對於華國的大二學生來說,換成除了周新,任何一個人來都做不出來。

  這不是水平的差距,而是全方位的差距。

  不管是教材、教師水平、學習的深度等等,大二和博士生入學考試之間隔著很厚的壁壘。

  更別說還要通過全英文作答。

  「如果我沒能通過考試呢?」周新在電話里反問道。

  胡正明笑了笑:「只要你能夠證明郵件是你本人寫的。

  那麼我也會幫你搞定轉校和獎學金的事情。

  只是說你需要來伯克利把本科沒有上完的課程補完。」

  作為半導體界教父級的人物,在伯克利呆了二十多年時間,想要幫學生搞定獎學金,用輕而易舉來形容毫不誇張。

  胡正明很欣賞周新,不僅僅是因為那封郵件,也是因為對方在溝通中表現出來的坦誠,以及這口流利的英語。

  甚至在一些語氣詞裡都和他一樣。

  周新在阿美利肯期間,主要溝通對象之一就是胡正明,口語主要就是在阿美利肯那幾年突飛猛進的。

  口語表達上二人當然會有相似之處。

  周新在電話那頭笑了笑:「好。」

  「MOSFET模型可以將 Em與所有器件參數和偏置電壓相關聯,描述了它在解釋和指導熱電子縮放中的用途,你是如何想到通過電路仿真的預測性來對MOSFET進行互連建模?」

  跨越數千公里的電話線,兩頭不僅僅是地理上的距離,更是時間上的距離。

  周新發給胡正明的解答,是胡正明自己在2000年的論文,發表在2000年的IEEE集成電路會議論文集上,在胡正明超過九百篇論文裡被引用次數排名第八。

  雖然排名不是很高,但是卻起到了承上啟下的作用。

  胡正明最大的貢獻是,將半導體的2D結構,研發優化出了3D結構,也就是FinFET。

  從 1960年到 2010年左右,基本的平面(2D) MOSFET結構一直保持不變,直到進一步增加電晶體密度和降低器件功耗變得不可能。

  胡正明在加州大學伯克利分校的實驗室早在1995年就看到了這一點。

  FinFET作為第一個 3D MOSFET,將扁平而寬的電晶體結構變為高而窄的電晶體結構。好處是在更小的占地面積內獲得更好的性能,就像在擁擠的城市中多層建築相對於單層建築的優勢一樣。

  FinFET也就是所謂的薄體(thin-body)MOSFET,這一概念繼續指導新設備的開發。

  它源於這樣一種認識,即電流不會通過矽表面幾納米內的電晶體泄漏,因為那裡的表面電勢受到柵極電壓的良好控制。

  FinFET牢記這種薄體概念。該器件的主體是垂直的矽鰭片,被氧化物絕緣體和柵極金屬覆蓋,在強柵極控制範圍之外沒有留下任何矽。FinFET將漏電流降低了幾個數量級,並降低了電晶體工作電壓。它還指出了進一步改進的路徑:進一步降低厚度。

  而電流不會通過矽表面幾納米內的電晶體泄漏,因為那裡的表面電勢受到柵極電壓的良好控制,這一概念,正是MOSFET進行互連建模在實驗室進行復現後發現的。

  周新不可能告訴胡正明,這是你自己發現的。

  不過由於周新對於胡正明最重要的論文,都做過精讀,對於當時是如何思考,有自己的分析。

  這些分析和二十年後的老胡交流過程中,也獲得了對方的認可。

  (本章完)