第134章 提前截胡台積電(4K)

  第134章 提前截胡台積電(4K)

  「你怎麼知道採用ArF技術會造成更多的線邊波動和不規則性?

  關於ArF技術路線,在IEEE的雜誌上有,但是無論是尼康還是佳能的工程師發表在上面的論文,都只說了好處沒有說缺陷。」林本堅驚訝地問。

  周新說:「尼康和佳能為了誤導競爭對手,故意不談ArF技術路線的缺點。

  為的就是讓競爭對手也踩到這個坑裡去。

  他們已經投入了大筆研發經費到ArF技術路線,沒有找到辦法解決ArF光源帶來的線邊波動和不規則性問題,所以他們認為其他競爭對手也解決不了這個問題。」

  林本堅默默點頭:「沒錯。

  就是這樣。」

  周新繼續說:「在技術路線上誤導競爭對手,這不是集成電路領域的常規操作嗎?」

  林本堅還是很好奇,他知道ArF技術路線的缺陷,是因為他從事這個領域的研究超過二十年,他有大量的人脈。

  由於保密協議的緣故,他的朋友無法直接告訴他,只能通過暗示的方式,向他透露ArF技術路線有重大缺陷。

  他對此也只是猜測,沒有證據的猜測。

  為什麼周新能夠說得如此篤定,並且把ArF技術路線的缺陷也說得如此清楚。

  要知道有資格進行ArF技術路線實驗的實驗室,也就那幾家光刻機公司。

  周新戰術喝水之後說:「林伯,我知道你在想什麼,我是不是買通了尼康的技術人員,從他們那獲得了技術機密。

  實際上ArF技術路線的缺陷,這很容易就推理出來。

  ArF光源的波長為193納米,相較於KrF光源的248納米波長更短。短波長光源在光刻過程中,顯然會受到更嚴重的散射、衍射和光學近場效應的影響,導致圖案傳輸過程中的線邊波動和不規則性增加。

  同時使用ArF光源的光刻技術用於更先進的製程節點中,這導致晶圓需要實現更高的解析度。

  隨著尺寸的縮小,光刻過程中的圖案邊緣更容易受到光學近場效應、衍射和光刻膠吸收等因素的影響,從而導致線邊波動和不規則性。

  這是基於物理知識的推論。」

  林本堅鼓掌,「精彩的推演和敏銳的洞察力。

  當時正明和我說他從燕大找到了天才學生的時候,我還在想到底有多天才,讓他那麼得意。

  你在這方面的天賦比我猜測的還要更出色。

  伱剛剛說的還差了兩點。

  一點是ArF光源的波長更容易被光刻膠吸收,這會導致光刻膠的曝光不均勻,進而影響成像質量。所以需要專門針對ArF光源設計專門的光刻膠。

  但是專門針對ArF光源設計光刻膠,來減少吸收呢,新光刻膠又很有可能會進一步造成線邊波動和不規則性。

  另外採用ArF來構建先進位程,會採用多重曝光技術、相位移光掩膜技術和偏振光技術等。

  這些技術一定程度上又會增加線邊波動和不規則性。

  所以造成線邊波動的原因比你猜測的更多。」

  周新問:「可是有這麼多困難,為什麼前輩你還是看好ArF路線?」

  周新怎麼知道林本堅看好ArF技術路線,因為林本堅這次在參加光學大會接受採訪的時候自己說的。

  「是幫光刻機公司打掩護嗎?」

  林本堅笑了:「我已經從IBM離職了,IBM這幾年也幾乎沒有在光刻機領域繼續投入了。

  我又沒有為尼康或者佳能工作,為什麼要幫他們打掩護。

  我當然是從我內心出發更加看好ArF技術路線。

  我們剛剛說的是ArF的缺點,這些缺點只是暫時的。

  在KrF光源代替g線和i線的過程中,同樣有很多困難。」

  g線是436nm波長的光源,i線是365nm波長的光源。

  「相對於g線和i線,KrF需要新的光刻膠和抗反射塗層材料來適應KrF光源的特性。

  同時KrF要求更高性能的光學系統和光掩膜材料。當時需要採用更先進的透鏡和光學元件,以實現更高的數值孔徑和解析度。

  此外,光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。

  KrF還需要優化曝光過程,以提高成像質量。我們當時主要採用了雙重曝光和離焦曝光技術來降低光刻誤差。

  讓我想想,對了,我們當時在研發KrF光源的時候還要對控制進行考慮,因為KrF實現了更高的解析度,所以需要更嚴格的製程控制要求。

  需要對光刻膠塗覆厚度、曝光劑量、顯影過程等參數進行更精確的控制,以保證光刻成像質量和產量。

  這麼多困難,我們照樣克服了,最終KrF光源代替了g線和i線,成為了今天的最先進的製程光源。

  同樣未來短波長的光源勢必然會代替長波長的光源,這是技術進步的必然。

  我們剛剛討論的困難只是暫時的困難。」

  ASML、尼康和佳能只是暫緩了在ArF上的投入,而不是停止了在ArF技術路線上的投入。

  後來ASML實現彎道超車,也是因為他們選擇了正確的技術路線,ArF光源以水為介質,在光刻膠上面抹一層水。

  水的介質折射率是1.44,193納米÷1.44≈134納米,ArF光源的波長進一步減少了。

  ASML能夠幹掉尼康和佳能,壟斷光刻機領域,他們在技術路線的兩個關鍵節點都做出了正確的選擇。

  應該穩健的時候他們比尼康穩健,從而在光刻機市場站穩了腳跟。

  應該激進的時候他們比尼康激進,從而占據了高端市場,把高額利潤全部吃掉了,後續一直保持住了技術領先。

  ArF技術路線突破之後,ArF的波長是193nm,他最多能夠製造65nm的晶片。

  如果要製造40nm製程以下的晶片,需要找到160nm以下的光源。

  尼康和佳能等企業選擇的是157nm的F2雷射,而ASML找到了光源做介質直接一步到位了。

  當然沒有加一層水那麼簡單。

  「我關於ArF技術路線一直認為是有辦法解決的。

  首先是需要專門針對ArF光源設計對應的光刻膠,其次是研發抗反射塗層,然後是改進光刻機的光學系統,找蔡司定製更先進的透鏡。

  來實現更高的數值孔徑和解析度。

  同時在曝光過程中進行優化。我專門針對ArF光源設計了一套解析度增強技術。

  包括輔助特徵、離軸照明、雙曝光技術等,用以改善圖案傳輸質量和提高解析度。」林本堅很興奮,難得見到這麼懂ArF技術的同行。

  其他懂這玩意的都簽了保密協議,林本堅和他們聊的很不盡興。

  華國差的不僅僅是光刻機,差的是整個高端製造業,即便能造出光刻機,光學鏡頭也能卡你脖子。

  不過蔡司是德意志企業而且沒上市,阿美利肯的長臂管轄管不到蔡司。

  周新聽完之後感慨對方不愧是大師級人物,還沒有加入台積電已經有完整的計劃了。

  同樣一件事,有的人是紙上談兵,有的人是決勝千里之外。

  華國價值觀以結果為導向,周新知道林本堅未來的成就,更別說林本堅說的這些都是絕對的乾貨。

  又和林本堅探討了一番ArF技術路線的未來後,周新問:「林伯,我打算成立一家光刻機公司,我需要真正懂行的人來幫我。

  你有沒有意願來幫我做事,我給你的職位是研發主觀。

  首批研發資金十億美元,我給你百分之二十的股份,但是你加入之後需要簽競業協議,同時我們的光刻機公司會放在華國。」

  林本堅聽完前半句話想馬上答應下來,十億美元的研發資金,百分之二十的股份。

  這是何等的信任,光是十億美元的研發資金,這家企業也最少值10億美元。

  直接就是給你兩個億。

  聽完後半句他心一涼:「Newman,我知道你是華國人,希望幫助華國在半導體領域有所發展。

  我也是華裔,在有能力和有機會的前提下,我同樣希望為華國的半導體行業發展進步貢獻自己的力量。

  但是光刻機的研發,非常依賴於和晶片製造廠商之間的合作。

  華國沒有什麼成熟的晶片製造廠商,我們把研發基地放在華國,很難有所進展。

  不管我是否答應你的條件,我都建議你放在彎彎或者阿美利肯。

  彎彎有台積電,阿美利肯有英特爾的晶片代工廠。

  在這兩個地方,你才有機會把你的產品在生產環境中經過充分的實驗。」

  ASML的研發中心遍布全球。

  周新說:「世大半導體的張汝京在籌備回華國成立晶片代工廠的事情。

  他們的選址、資金和團隊都已經就位了。

  我們前期籌備階段和實驗室研發階段,這個時期是不需要和代工廠合作的。

  我們的進度會比張汝京那邊的進度更慢,等到我們的實驗室產物研發出來之後,正好可以送到他們那裡去進行驗證。

  張汝京的晶片代工廠,剛剛起步的時候我們才有機會進去。

  無論是台積電、英特爾還是三星,他們都很難給一家新成立的光刻機公司機會。

  讓我們的實驗室產物介入他們的生產流程中。

  反而在我看來,華國才是機會所在,我們需要藉助華國的代工廠打出名氣,然後才有機會和其他的晶片代工廠合作。

  這也是農村包圍城市的打法。」

  為什麼華國的光刻機是實驗室產物,因為沒有在生產環境中經過充分驗證。

  因此ASML對華國禁運從某種意義上來說是好事,如果不禁運,華國自主研發的光刻機永遠都不會有機會進入到生產流程中。

  林本堅說:「你要成立的光刻機公司現在有多少人?」

  周新說:「你是第一個,你負責把研發團隊搭建起來,你是研發主管。

  我會給你完全的信任和自主權。

  我只會在研發方向上給我的建議和思考。」

  林本堅聽完有點無語,說白了只有錢沒有人。

  「我需要時間來思考。

  Newman既然你邀請了我,那麼我也不介意把話說得更直接。

  對於一家光刻機公司來說,十億美元可能只是前期研發的投入,如果我們不能早點實現盈虧平衡,不能製造出可以進入生產環境的光刻機。

  那未來需要你不斷投入研發費用,或者直接解散公司。

  因此10億美元只是入場券,靠產品實現盈虧平衡才代表這家光刻機公司活了下來。

  其次即便我們成立公司,還是有很多無法繞過的專利需要向尼康、ASML、IBM、德州儀器這些公司買,購買專利使用權。

  我們不可能所有技術都靠自己來研發。

  當然未來我們研發出來的技術,他們要使用也需要向我們繳納專利使用費。

  另外你開的待遇很高,我還是第一次收到這麼高待遇的offer。

  從待遇的角度出發,絕對是能夠讓我滿意的。

  我成立的林創都快八年時間了,估值連五千萬美元都沒有。

  只是我一個人主導這件事,我不確定自己能幹好。

  我其實沒有太多管理的經驗,我只管理過幾個人的研發團隊,管理一家光刻機公司的研發團隊,這個規模的管理工作我沒有做過。

  負責一家光刻機公司所有研發人員從零開始的團隊構建,我就更沒有做過了。

  我擔心自己做不好。」

  周新不擔心,林本堅加入台積電之後最高做到了台積電的副總裁。

  台積電這個體量的公司,副總裁可比他們要成立的光刻機公司要管的人多得多。

  周新說:「我充分地相信你有這個能力。

  管幾個人和管幾十個人,其實差不多,你只需要把主管管好就行。

  另外我會幫你找一個足夠出色的幫手,他會和你一起負責公司的組建和管理。」

  林本堅好奇問:「誰?我認識嗎?正明嗎?

  你勸他也離開伯克利,來和你一起創業嗎?

  正明比我要好一些,思略半導體要比林創更有價值,估值也要高得多。

  正明現在應該還沒有另外再開始管一家公司的念頭吧」

  周新搖頭:「不是胡教授,我不知道你認不認識。

  他是彎彎人,之前在加州那邊的半導體公司做模擬IC設計。

  關建英,你認識嗎?」

  林本堅說:「我好像有點印象,但是肯定不熟,最多是見過。」

  是的,周新剛得知的消息,老關被人趕出來了。

  這是補昨天的,今天更了1w,昨天的4k加今天的6k。

  本來中間一度想擺爛,最終還是咬牙堅持下來了。

  即便周末,寫一萬字還是很累。

  最後求個月票!

  (本章完)