123.第122章 三大件的解決方案

  第122章 三大件的解決方案

  EUV光刻機的核心技術,主要由三大系統構成。

  首先是EUV光源系統,這個系統負責製造光刻過程中,需要用到的特殊光線。

  從第一代的UV光刻機,到第五代的EUV光刻機,光線的波長也從436nm,縮短到了13.5nm,目前所有的光刻機,就是通過光線的不同,來區分技術等級的。

  這其中主要涉及到的原理,就是光學中光線波長和清晰度的關係。

  最簡單的道理,就是進入黃色的鎢絲燈房間,大部分人都會感覺視線昏暗,

  哪怕多加幾個燈泡,也始終感覺沒有白色的LED燈那麼明亮和清晰。

  這就是因為黃色光的波長,要遠高於白色光,

  光線的波長,就像是海浪一樣,越大的波浪,拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。

  而這個水位的高低落差,換成在光學領域,就成了影響陰影邊緣清晰度的重要因素。

  因此,想要達到越小製程的晶片工藝,就需要波長越短,越無限接近絕對直線的光。

  而在EUV光源技術上,據康馳目前所能查到的資料來看,國內的常春光所應該也已經接近突破的邊緣了,但具體到了哪一步,康馳也不清楚。

  他打算先試著了解一下情況,

  如果條件允許,價格合適的話,他可能會直接向他們進行採購,

  哪怕技術稍微不達標,採購過來自己再進行改良優化,也能節省大量的時間和精力。

  畢竟一台光刻機裡面,有足足十幾二十萬的零部件,全靠大唐重工自己來做的話,那得搞到猴年馬月去。

  而向他們採購,既不浪費他們的科研成果,還能利用上他們的生產力,

  也算是共贏了。

  所以康馳這次,並不排斥自己成為組裝、調試和改良的角色。

  放著華國這麼完整的產業鏈不用,反倒自己去搓每個螺絲,不但浪費國內這麼好資源和基礎,更是閉門造車吃獨食的表現。

  而能用本國的產業鏈,來完成一台光刻機的所有零件製造,全球有且只有一個國家才有可能做到,

  那就是華國。

  換成老M也不行。

  他們也沒辦法只在本國,就找到光刻機全部零部件的供應商,得全球多國合作協同才行。

  而巨大的資源協調成本,更是會大大加重整個研發項目的費用和時間,

  這也是華國的很多產品,能做到成本遠低於國外廠商的主要原因之一。

  總之,無論常春光所有沒有突破EUV光源的技術,康馳都可以嘗試著借用他的研發製造能力,來迅速獲得一套可行的光源系統。

  現在光刻的光有了,

  下一步就是把光,通過一個光學系統,收集並投影到塗上了光刻膠的矽片上面。

  這個光學系統,也是整台光刻機中,造價成本占比最大的。

  這部分康馳準備對大秦光學的鏡頭生產線,進行升級,然後把它給拆了,直接獲得光刻機鏡片和反射鏡製造,所需要的大部分設備零件。

  這麼做的效率無疑會高很多,

  而且升級後的生產線,估計連解析項目都沒有,

  因為裡面的大部分技術,康馳在解析光刻機的時候,就已經得到了,他本人擁有非常大的解釋空間。

  唯一的缺點就是,需要他在接下的項目中,進行一定的混淆視聽,把這些拆分開的組件,神不知鬼不覺地摻到整個項目里去。

  嗯,

  就是欺負嚴輝他們對光刻機沒啥研究,

  到時候估計也是康馳讓他們幹什麼,他們就幹什麼,思考空間並不多。

  至於光刻機最後的一個關鍵系統,則是承載矽片的雙工件台系統。

  它的工作原理很簡單,就是在光刻中不斷的挪動矽片的曝光部位,但其中的技術含量其實非常大。

  因為這個工作平台必須快、准、狠。

  速度,決定了光刻機的效率,

  移動太慢了,光刻機的產量就不行,

  這就要求它,在高速移動後,還得迅速且精準地停下,

  停留的位置誤差,還得在1nm以內,

  但凡偏差大一點,整個晶圓就直接報廢了!

  這啥概念?

  大概就是一輛高速行駛的汽車,突然緊急剎停,然後停下位置誤差還不能超過1毫米。

  不過這個難點,在今年5月份的時候,剛好被鉿工大給搞定了,

  他們研發出來的真空高速超精雷射干涉儀,位移的解析度達到了驚人的5pm,位移誤差控制在了30pm!

  要知道,1000pm才等於1nm!

  0.03nm的位移誤差,簡直牛逼到不行!

  康馳簡直懷疑,他們是不是和自己一樣開了掛……

  講真,華國能人還是挺多的,

  如果不靠系統,康馳自己雖然也有一定的把握可以攻克這種技術,但時間就不知道要多久了……

  所以康馳一直也不斷地在提醒自己,雖然系統確實好用,但自己學習和理解的腳步同樣不能停下。

  這不但是為了在解析技術的時候,減輕自己的痛苦,免得突然暴斃,更是為以後萬一出現精通點不夠,需要自研的情況出現時,不至於兩眼一抹黑啥也幹不了。

  總之EUV光刻機的大部分技術難點,其實華國都已經攻克或即將攻克了,只不過具體哪些能夠復刻落地量產,還是個未知數。

  為了得到答案,康馳特地打了個電話給呂首長。

  當聽到康馳問光刻機的事情,呂首長頓時就打起了精神,連忙問道:「你準備搞光刻機研發?」

  「嗯,有這個想法。」

  「搞光刻機好啊!嗯……不過你不是忙著量產採油蟲嗎?哪來這麼多的時間精力研發光刻機?」

  「抽空玩玩唄……」

  「……」

  隨後康馳又在呂首長的沉默中,諮詢了關於常春光所EUV光源系統,和鉿工大雙工件台系統研究情況。

  「嗯……他們確實都有了一定的突破,但具體到了什麼技術節點,還有多久能實際落地,我也說不準……你可以找張院士問問,這方面他比較清楚。」

  於是康馳掛了電話後,又撥通了張達遠的電話,

  結果張達遠一聽康馳的問題,直接就說電話上講不清楚,讓他過去燕京面談。

  康馳強烈懷疑,這老頭就是想把他騙過去,忽悠他搞那個啥穩態微聚束光源,

  但為了爭取縮短光刻機研製周期的機會,康馳也不得不從了他……

  反正過去後任他怎麼說,康馳就是不跟他干,

  他還能把康馳給扣了不成?

  ……

  經過了兩個多小時飛行,康馳在天黑前就抵達了燕京國際機場,

  前來接機的是陳海的同事,三人匯合後,便直奔HEPS項目部。

  經過層層安檢和報備,康馳終於項目部裡面,見到了帶著安全帽,穿得像工地工人的張達遠。

  看到這個已經年近七十的老人,竟然還能精神抖擻地深居一線,親自參與實驗工程的建設,康馳也不禁感到有些佩服。

  「張院士,好久不見了。」

  剛見面,康馳便主動和他握了握手,讚嘆道:「您可真是寶刀未老啊。」

  「那必須的。」張達遠得意地拉著康馳,「走走走,先帶伱參觀參觀。」

  面對張達遠的熱情,康馳自然也不好拒絕,

  何況他本人,其實對這裡也挺好奇的,於是便跟著張達遠,在這個正在建設中的高能同步輻射光源裡面,簡單地轉了一圈。

  上一章差點被4,好在修改後放出來了。

  估計如果寫的太細太貼近事實,非常容易被4……

  穩妥起見,接下來在技術和節點,可能會簡單帶過,

  然後稍微誇張點,反正牛逼就完事了。

  希望大家不用去較真找茬,就當是我瞎幾把亂吹好了。

  嗯,

  事實上,我就是在吹牛逼,真的!

  (本章完)