858章 寡頭公司!

  楊傑對此倒是有足夠的耐心,前世的時候艾斯摩爾公司也是花費了十多年時間和技術積累才推出了紫外光光刻機產品出來。

  其實從2000年以來,在光學光刻技術努力突破解析度「極限」的同時,海外很多研究機構也是在研發包括極紫外線光刻技術,電子束光刻技術,X射線光刻技術,納米壓印技術等不同的光刻技術。

  其中X射線光刻技術被提出來進行研發的主要原因是因為X射線的波長極短,X射線在用於光刻時的波長通常在0.7到0.12納米之間,它極強的穿透性決定了它在厚材料上也能定義出高解析度的圖形來。

  不過這種技術現階段來說有兩個極大的困難,一個就是如何得到能夠長時間穩定可靠工作的光源,到現在為止,世界上還沒有辦法造出符合這樣條件的的光源來,因為現階段人類製造出第三代同步輻射光源都已經拿出吃奶的勁了。

  而且使用X射線光刻技術最主要且最困難的技術就是掩模製造技術,其中1:1的光刻非常困難,是妨礙技術發展的難題之一。

  在過去的發展中,科學家對其已經得到了巨大的發展,也有一些新型材料的發現以及應用,有一些已經在實驗室中得以實踐,但對於工業發展還是沒有什麼重大的成就。

  X射線掩模的基本結構包括薄膜、吸收體、框架、襯底,其中薄膜襯基材料一般使用矽、碳化矽、金剛石,吸收體主要使用金、鎢等材料。

  要能夠使X射線以及其他光線的有效透過,且保障其有足夠的機械強度,具有高的X射線的吸收性,且要足夠厚,保障其高寬比的量,且其要有高度的解析度以及反差,對於其掩模的尺寸要保障其精度,要沒有缺陷或者缺陷較少。

  另外還要研發特殊的光刻膠,難度比華興集團公司研製極紫外光光刻膠的難度還要大。

  所以這項技術只能是作為預研,現階段根本沒有實現的可能。

  至於一些研發機構進行研究的納米壓印光刻技術,主要包括熱壓印、紫外壓印以及微接觸印刷,這個技術原理就跟蓋章一樣,採用高解析度電子束等方法將結構複雜的納米結構圖案制在印章上,然後用預先圖案化的印章使聚合物材料變形而在聚合物上形成結構圖案。

  不過這種技術也是受限於現階段設備製造技術和化學材料技術,就算是用這種技術也需要極為精密的電子束設備在碳化矽材料上進行刻蝕圖案,還要研發塗敷在晶圓上的不同聚合物,工藝也並不簡單,也需要大量的廠商進行合作。

  現在光刻技術已經是非常成熟了,大量的廠商都能從這個過程中得到利益,誰會願意為了一個誰也不能保證一定成功的新工藝方法來投入大量的人力物力財力去研發這些,輕易地改變自己的技術路線呢!

  而且極紫外光則是目前距實用化最近的一種深亞微米的光刻技術,因為鷹醬在八十年代就對極紫外光技術進行了理論上的探討並做了許多相關的實驗,而且也是第一個造出第三代輻射同步光源的國家。

  可以說鷹醬砸很多技術領域都是走在最前面的,但是九十年代鷹醬努力地發展金融產業,大量的資本湧入了金融產業,國內的實體製造業也是受到了很大的衝擊,鷹醬國內的唯一一家光刻機公司也是賣給了艾斯摩爾公司,雖然大量的研究機構還是能得到足夠的經費,而軍工集團公司因為軍火出口製造的能力並沒有下降得厲害,但是因為民間的企業都是經營困難破產的破產,轉移產業的轉移產業,整個國家的製造能力實際上是處於不斷下滑的狀態。

  而這十年間兔子國內的製造實力卻是處於一種急速提升的狀態,尤其是華興集團公司能夠設計製造出高精密的加工機械設備和在材料技術上的進步,連帶著國內整體製造實力都是往上邁上了一個很大的台階。

  能夠在這麼短的時間裡面建設出來國內第一座第三代同步輻射光源設施並且大部分的儀器設備都能夠自己設計製造出來就非常好地體現出來了。

  楊傑倒是希望鷹醬能夠自己意識到自己國內的問題時間更晚一些,儘量地為自己的公司和國內多爭取發展的時間。

  不過他也知道鷹醬要想再實現自己製造業強大的可能性並不是很大,除非碰上一個特別的歷史機遇或者有那麼一個非常強勢的政治人物上台花非常大的力氣才能扭轉頹勢,否則國力衰退只是一個遲早的問題。

  楊傑要現在要做的就是要緊緊地咬住這個歷史機遇,努力地將手中的掌握的核心技術繼續投入研發下去,別的不說,半導體產業最核心關鍵的光刻機技術和光刻機的市場他是要死死地攥在手裡的。

  現在微電子行業的發展已經是受到重重阻礙,從微電子技術的發展過程能分析判斷出,若不早日推出極紫外光刻技術來對當前的晶片製造方法做出全面的改進,將使整個晶片工業處在岌岌可危的地步。

  從現在來看,華興集團公司在極紫外光光源和鏡組方面的技術已經是掌握了,接下來的就是如何將光源和鏡組小型化,雖然這中間還有很多的工程技術難題,但是這對華興集團公司已經不是什麼特別困難的事情了,幾年之內是能夠可以解決的。

  至於雙工件台的精度誤差控制在兩納米之內的高難度工程技術難題現在因為瑞星科技公司在磁懸浮技術上的研發上已經取得了很大的突破,現在瑞星科技公司的工件台運動精度誤差控制在兩到三納米之間,已經是追上了艾斯摩爾公司的技術水平。

  因為瑞星科技公司是最早研發沉浸式光刻機技術的,在這方積累了大量的技術專利,艾斯摩爾公司到今年才好不容易造出了第一款沉浸式光刻機出來,而且賣得很貴,足足比瑞星科技公司的G系列光刻機多出了一千萬美金。

  歐洲和鷹醬的一些晶圓廠也是為了不想一直被瑞星科技公司捏著喉嚨也是採購了幾十台,不過跟瑞星科技公司去年光是光刻機的銷量就達到了198台左右,占到了百分之六十五的市場份額,成為了光刻機市場的寡頭公司。